气氛炉温度设置

　　气氛炉主要作用于物体的烧结，而在制品的烧结过程中可控气氛炉能够有效地提高制品的致密化程度从而获得良好的性能制品。适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理，是科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设备。

　　1. 高温度：950℃。

　　2. 常用温度: 800℃。

　　3. 炉膛尺寸：560×400×300 mm(L×W×H)。

　　4. 有效工作尺寸：360×320×200 mm(L×W×H)。

　　5. 加热方式：上下加热。(暗火加热)

　　6. 温度仪表(见图1)：可编程序控制(40段程序)。

　　7. 控制方式： 可控硅移相调压。

　　8. 炉温稳定度：±1℃(以仪表显示为准)。

　　9. 均匀性：在有效工作尺寸内±5℃。

　　10. 炉门密封：水冷却套、硅橡胶密封。

　　11. 气氛控制：气体流量计+减压阀

　　12. 功率：15kw